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Mentor新一代45纳米工艺的OPC技术

发布时间:2020-06-30 19:30:33 阅读: 来源:毛领厂家

低k1光刻(Photolithography)工艺提高了RET(Resolution Enhancement Technology)在纳米设计中的应用复杂度。在45纳米,更多的复杂模式、工艺的窗口修正(window correction)、以及验证需求增加了计算负担。在双重压力下,45纳米工艺需要更加先进的光刻工具。

Mercury的Cell 芯片明导电子科技(Mentor Graphics)日前继Calibre OPCverify工具之后,又推出新一代的光学接近效应修正技术(OPC)解决方案Calibre nmOPC。Mentor Graphics设计与制造部门总经理Joe Sawicki告诉记者,Calibre nmOPC的几项创新包括高密度模拟(Dense Simulation),优化了OPC的工艺窗口,采用硬件加速的综合计算平台(Cell Broadband Engine处理器)等等都是用来应对45纳米工艺下新的光刻需求。由于工艺变异可能对芯片良率产生极大影响,这种现象在光刻工艺中尤其明显。为了提高良率,Calibre nmOPC的高密度模拟能力可以提供100%的模拟覆盖整个掩膜,而窗口修正的优化算法可以确保硅图案化(Silicon-patterning)的成功。同时Mentor Graphics还携手Mercury Computer Systems共同开发基于高性能Cell BE处理器的标准多核高速计算机集群,Cell BE处理器提高了Calibre nmOPC的图像处理4-10倍的速度。Joe Sawicki表示结合OPC验证工具Calibre OPCverify,Calibre nmOPC将把计算光刻技术带进一个新的时代——更高的模拟精度,更优化的性能和更低的成本。(崔澎)

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